报告题目：高分辨成像穆勒矩阵椭偏仪研制与纳米测量应用
报告时间：2023年8月12日14:30-16:30
报 告 人：刘世元，教授，华中科技大学
报告地点：南岭校区机械馆529室，腾讯会议：593-450-041
报告内容介绍：
集成电路(IC)、发光二极管(LED)照明、有机发光(OLED)显示、光伏(PV)太阳能等微电子、光电子器件，代表了国家重大战略产业。这类器件的一个共同特点，是由超薄层状纳米薄膜或纳米结构堆叠而成，每层厚度和结构尺寸都在数百个纳米到几个纳米。微区光学常数与纳米结构形貌的定量精确表征，对提高这类器件的性能具有十分重要的意义。椭偏仪是一种利用光的偏振态改变信息来分析样品的重要科学仪器，可以同时高精度定量获取待测样品的光学常数和几何形貌等信息，已经发展成为纳米薄膜和纳米结构测量表征强有力的工具。但是，传统椭偏仪的横向分辨率完全取决于其探测光斑大小，最小只能聚焦到约50微米，无法满足微区测量要求。
我们提出高NA物镜后焦面扫描的高分辨成像穆勒矩阵椭偏测量新原理，首次将椭偏测量成像分辨率提升至0.5微米量级。本报告将介绍高分辨成像穆勒矩阵椭偏测量原理、关键技术与仪器研制，在此基础上介绍其在纳米测量领域的新应用，包括二维材料、一维晶体、有机半导体及器件、IC纳米结构等测量表征。
报告人简介：
刘世元，华中科技大学williamhill官网、光电学院双聘教授、博士生导师，华中科技大学集成电路测量装备研究中心主任；国家杰出青年科学基金获得者，国家科技创新领军人才；国际测量与仪器委员会委员，中国仪器仪表学会显微仪器分会副理事长，中国微米纳米技术学会微纳米测量与仪器分会副理事长。长期从事计算光刻成像理论与应用、纳米光学测量技术与仪器、集成电路IC测量检测技术与装备等方面的研究。主持国家自然科学基金（7项，包括杰青、重大仪器、重点项目）、首批国家重大科学仪器设备开发专项等国家重大重点项目，获国际国内发明专利100余件，发表学术论文200余篇。研制的仪器、软件、测量装备等多项成果已实现成果转化和产业化，在中芯国际、长江存储、华星光电、京东方等微电子、光电子龙头企业获得批量应用。
